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硅片清洗劑
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硅片清洗劑
硅片清洗劑
產品名稱 硅片清洗劑 產品介紹 針對硅片材質的特殊性,在強酸強堿里易產生過腐蝕,借鑒國內外先進技術配方,采用弱堿及助劑經科學復配而成,為進口清洗劑的替代型產品 。 本水基型硅清洗劑,由特殊表面活性劑經科學研制構成。能很快清除掉硅表面殘留的油污、灰土雜質及金屬氧化物。經反復試驗, 在行業內知名太陽能廠家聯合試驗后發現該產品對輕污染硅片及多晶硅料清洗效果非常突出。 性能與特點 本品為高濃縮物,主要有鉀鹽、絡合劑、助洗劑復配而成,清洗能力強 本品對硅料的洗凈性有非常突出的表現,對銅、鐵等金屬離子有很強的剝離、絡合、洗凈效果,經檢測對油污的洗凈率為99%以上 本產品不含磷與鈣、鎂、鐵、銅、鉛等金屬離子,環保性好,并符合歐盟ROHS要求 本產品屬低泡產品,適合在超聲波上使用,不會有泡沫溢出。 本產品除鉀、鈉離子以外的金屬離子含量不高于 50PPm,清洗后的硅片擁有更優異的光電轉換效率。 清洗液配制和使用方法 : ? 1)在清洗槽中先加3/4純凈水 2)如果在手動線使用,建議每 100 升槽液中加入 4~6 公斤本清洗劑,并盡可能減少中間的添加量,提高工作效率,當遇到磨光碾磨膏硅片及回收懸浮液切割的硅片時可以適當根據每家的情況在每班8小時中間添加清洗劑,為了保證清洗效果,建議每班更換 3)如果是自動線連續添加使用,可以按每 100 升槽液中加入 1~2 公斤本清洗劑先進行開槽,并根據自動線的硅片清洗量計算后連續添加控制,為了保證清洗效果,建議每1~3個班更換 4)一般每公斤本清洗劑可以處理125#單晶硅片1000片以上,添加時可以根據該比例計算,當遇到磨光碾磨膏硅片及回收懸浮液切割的硅片時應適當增加藥劑量,當然在保證硅片成品率的情況下也可適當減少添加量 5)然后將純凈水加至操作液位,加溫到所需溫度,即可以使用 6)硅片在清洗過程中盡可能減少裸露在空氣中的時間,以防止產生花片 我公司是一家致力于光伏產業新技術研發和新產品推廣,研發、生產、銷售晶硅體切割液、金剛線冷卻液等太陽能發電行業輔助材料及多種表面活性劑的綜合型企業,產品廣泛應用于半導體、光伏產業、磁性材料及多種高科技領域。作為一個優質的硅片清洗劑廠家,具體的硅片清洗劑價格,請電話咨詢。

 

產品名稱

 

硅片清洗劑 

產品代號

PTE-3022DE 

產品介紹

 

針對硅片材質的特殊性,在強酸強堿里易產生過腐蝕,借鑒國內外先進技

術配方,采用弱堿及助劑經科學復配而成,為進口清洗劑的替代型產品 

 

本水基型硅清洗劑,由特殊表面活性劑經科學研制構成。能很快清除掉硅

表面殘留的油污、灰土雜質及金屬氧化物。經反復試驗, 在行業內知名太

陽能廠家聯合試驗后發現該產品對輕污染硅片及多晶硅料清洗效果非常突

出 

性能與特點

 

本品為高濃縮物,主要有鉀鹽、絡合劑、助洗劑復配而成,清洗能力強

 

 

本品對硅料的洗凈性有非常突出的表現,對銅、鐵等金屬離子有很強的剝

離、絡合、洗凈效果,經檢測對油污的洗凈率為

99%

以上

 

 

本產品不含磷與鈣、鎂、鐵、銅、鉛等金屬離子,環保性好,并符合歐盟

ROHS

要求

 

 

本產品屬低泡產品,適合在超聲波上使用,不會有泡沫溢出。

 

本產品除鉀、

鈉離子以外的金屬離子含量不高于

 50PPm

,

清洗后的硅片擁

有更優異的光電轉換效率 

物化性質

 

 

 

 

:無色至微黃色液體           氣

 

 

 

:有微量香味

  

  密

 

 

 

1.02 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

pH 

 

:>

10 

1%

 

  閃

 

 

 

 

  

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

水溶性

 

100

 

應用說明

 

 

工藝流程

 

 

 

 

一槽和二槽

 

循環去離子水預清洗

 

三槽和四槽

 

清洗處理(槽液

45~65

℃,

3~5

分鐘)

 

五槽和六槽

 

循環去離子水漂洗

 

快速風干

 

 

清洗設備

 

 

超聲波或噴淋及手工擦洗使用

 

清洗濃度

 

 

手動線

4

6

﹪;自動線連續添加

1

2

 

控制參數

 

 

游離堿度

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1~2

(

工作液

)    

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

槽液溫度

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

45~65

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

處理時間

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2~3

分鐘

 

 

 

原液指標

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

PTE-3022DE

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

外觀

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

無色液體

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

比重

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1.00±0.05 

 

 

 

 

 

 

 

 

PH

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

10~13 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

游離堿度

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

30~50 

 

 

產品名稱

 

硅片清洗劑 

產品代號

PTE-3022DE 

產品介紹

 

針對硅片材質的特殊性,在強酸強堿里易產生過腐蝕,借鑒國內外先進技

術配方,采用弱堿及助劑經科學復配而成,為進口清洗劑的替代型產品 

 

本水基型硅清洗劑,由特殊表面活性劑經科學研制構成。能很快清除掉硅

表面殘留的油污、灰土雜質及金屬氧化物。經反復試驗, 在行業內知名太

陽能廠家聯合試驗后發現該產品對輕污染硅片及多晶硅料清洗效果非常突

出 

性能與特點

 

本品為高濃縮物,主要有鉀鹽、絡合劑、助洗劑復配而成,清洗能力強

 

 

本品對硅料的洗凈性有非常突出的表現,對銅、鐵等金屬離子有很強的剝

離、絡合、洗凈效果,經檢測對油污的洗凈率為

99%

以上

 

 

本產品不含磷與鈣、鎂、鐵、銅、鉛等金屬離子,環保性好,并符合歐盟

ROHS

要求

 

 

本產品屬低泡產品,適合在超聲波上使用,不會有泡沫溢出。

 

本產品除鉀、

鈉離子以外的金屬離子含量不高于

 50PPm

,

清洗后的硅片擁

有更優異的光電轉換效率 

物化性質

 

 

 

 

:無色至微黃色液體           氣

 

 

 

:有微量香味

  

  密

 

 

 

1.02 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

pH 

 

:>

10 

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  閃

 

 

 

 

  

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

水溶性

 

100

 

應用說明

 

 

工藝流程

 

 

 

 

一槽和二槽

 

循環去離子水預清洗

 

三槽和四槽

 

清洗處理(槽液

45~65

℃,

3~5

分鐘)

 

五槽和六槽

 

循環去離子水漂洗

 

快速風干

 

 

清洗設備

 

 

超聲波或噴淋及手工擦洗使用

 

清洗濃度

 

 

手動線

4

6

﹪;自動線連續添加

1

2

 

控制參數

 

 

游離堿度

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1~2

(

工作液

)    

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

槽液溫度

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

45~65

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

處理時間

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2~3

分鐘

 

 

 

原液指標

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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外觀

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

無色液體

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

比重

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1.00±0.05 

 

 

 

 

 

 

 

 

PH

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

10~13 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

游離堿度

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

30~50 

 

 

產品名稱

 

硅片清洗劑 

產品代號

PTE-3022DE 

產品介紹

 

針對硅片材質的特殊性,在強酸強堿里易產生過腐蝕,借鑒國內外先進技

術配方,采用弱堿及助劑經科學復配而成,為進口清洗劑的替代型產品 

 

本水基型硅清洗劑,由特殊表面活性劑經科學研制構成。能很快清除掉硅

表面殘留的油污、灰土雜質及金屬氧化物。經反復試驗, 在行業內知名太

陽能廠家聯合試驗后發現該產品對輕污染硅片及多晶硅料清洗效果非常突

出 

性能與特點

 

本品為高濃縮物,主要有鉀鹽、絡合劑、助洗劑復配而成,清洗能力強

 

 

本品對硅料的洗凈性有非常突出的表現,對銅、鐵等金屬離子有很強的剝

離、絡合、洗凈效果,經檢測對油污的洗凈率為

99%

以上

 

 

本產品不含磷與鈣、鎂、鐵、銅、鉛等金屬離子,環保性好,并符合歐盟

ROHS

要求

 

 

本產品屬低泡產品,適合在超聲波上使用,不會有泡沫溢出。

 

本產品除鉀、

鈉離子以外的金屬離子含量不高于

 50PPm

,

清洗后的硅片擁

有更優異的光電轉換效率 

物化性質

 

 

 

 

:無色至微黃色液體           氣

 

 

 

:有微量香味

  

  密

 

 

 

1.02 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

pH 

 

:>

10 

1%

 

  閃

 

 

 

 

  

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

水溶性

 

100

 

應用說明

 

 

工藝流程

 

 

 

 

一槽和二槽

 

循環去離子水預清洗

 

三槽和四槽

 

清洗處理(槽液

45~65

℃,

3~5

分鐘)

 

五槽和六槽

 

循環去離子水漂洗

 

快速風干

 

 

清洗設備

 

 

超聲波或噴淋及手工擦洗使用

 

清洗濃度

 

 

手動線

4

6

﹪;自動線連續添加

1

2

 

控制參數

 

 

游離堿度

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1~2

(

工作液

)    

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

槽液溫度

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

45~65

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

處理時間

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2~3

分鐘

 

 

 

原液指標

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

PTE-3022DE

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

外觀

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

無色液體

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

比重

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1.00±0.05 

 

 

 

 

 

 

 

 

PH

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

10~13 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

游離堿度

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

30~50 

 

 

產品名稱

 

硅片清洗劑 

產品代號

PTE-3022DE 

產品介紹

 

針對硅片材質的特殊性,在強酸強堿里易產生過腐蝕,借鑒國內外先進技

術配方,采用弱堿及助劑經科學復配而成,為進口清洗劑的替代型產品 

 

本水基型硅清洗劑,由特殊表面活性劑經科學研制構成。能很快清除掉硅

表面殘留的油污、灰土雜質及金屬氧化物。經反復試驗, 在行業內知名太

陽能廠家聯合試驗后發現該產品對輕污染硅片及多晶硅料清洗效果非常突

產品名稱

硅片清洗劑

產品介紹  

針對硅片材質的特殊性,在強酸強堿里易產生過腐蝕,借鑒國內外先進技術配方,采用弱堿及助劑經科學復配而成,為進口清洗劑的替代型產品 。 本水基型硅清洗劑,由特殊表面活性劑經科學研制構成。能很快清除掉硅表面殘留的油污、灰土雜質及金屬氧化物。經反復試驗, 在行業內知名太陽能廠家聯合試驗后發現該產品對輕污染硅片及多晶硅料清洗效果非常突出。

性能與特點

本品為高濃縮物,主要有鉀鹽、絡合劑、助洗劑復配而成,清洗能力強   本品對硅料的洗凈性有非常突出的表現,對銅、鐵等金屬離子有很強的剝離、絡合、洗凈效果,經檢測對油污的洗凈率為99%以上    本產品不含磷與鈣、鎂、鐵、銅、鉛等金屬離子,環保性好,并符合歐盟ROHS要求    本產品屬低泡產品,適合在超聲波上使用,不會有泡沫溢出。 本產品除鉀、鈉離子以外的金屬離子含量不高于 50PPm,清洗后的硅片擁有更優異的光電轉換效率。

清洗液配制和使用方法 :

  1)在清洗槽中先加3/4純凈水   2)如果在手動線使用,建議每 100 升槽液中加入 4~6 公斤本清洗劑,并盡可能減少中間的添加量,提高工作效率,當遇到磨光碾磨膏硅片及回收懸浮液切割的硅片時可以適當根據每家的情況在每班8小時中間添加清洗劑,為了保證清洗效果,建議每班更換  3)如果是自動線連續添加使用,可以按每 100 升槽液中加入 1~2 公斤本清洗劑先進行開槽,并根據自動線的硅片清洗量計算后連續添加控制,為了保證清洗效果,建議每1~3個班更換  4)一般每公斤本清洗劑可以處理125#單晶硅片1000片以上,添加時可以根據該比例計算,當遇到磨光碾磨膏硅片及回收懸浮液切割的硅片時應適當增加藥劑量,當然在保證硅片成品率的情況下也可適當減少添加量 5)然后將純凈水加至操作液位,加溫到所需溫度,即可以使用 6)硅片在清洗過程中盡可能減少裸露在空氣中的時間,以防止產生花片

我公司是一家致力于光伏產業新技術研發和新產品推廣,研發、生產、銷售晶硅體切割液、金剛線冷卻液等太陽能發電行業輔助材料及多種表面活性劑的綜合型企業,產品廣泛應用于半導體、光伏產業、磁性材料及多種高科技領域。作為一個優質的硅片清洗劑廠家,具體的硅片清洗劑價格,請電話咨詢。

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